國產替代的大背景下 ,9月19日半導體產業鏈走強,其中光刻機方向再度領漲 。截至早間收盤,波長光電大漲15% ,騰景科技漲超14%,華軟科技、西隴科學 、凱美特氣、永新光學、海立股份等多股漲停,瑞聯新材 、華亞智能等漲超8%。
光刻機國產替代勢在必行
光刻機是晶圓制造最核心設備之一,技術難度最高且當前國產化率最低。在半導體制造領域 ,光刻機是延續摩爾定律的核心裝備 。當前最高端的產品為ASML研發的EUV光刻機,能支持 7nm 甚至更先進工藝,是延續摩爾定律的核心突破 ,正推動半導體產業持續迭代。
全球光刻機市場呈現出明顯的寡頭壟斷格局,ASML、Nikon和Canon三家公司長期占據全球光刻機市場的主導地位。其中,ASML憑借其在高端光刻機領域的技術優勢 ,2024年占據了全球光刻機市場61.2%的份額,特別是在EUV光刻機領域,ASML是全球唯一的供應商。尼康和佳能則主要集中在中低端光刻機領域 。
公開資料顯示 ,ASML第一大股東是美國資本國際集團(Capital Research andManagement Company),擁有15.81% 股權。第二大股東是美國貝萊德集團(BlackRock Inc.),擁有7.95% 持股。第三大股東是英國巴美列捷福投資(Baillie Gifford) ,擁有4.54% 股份 。剩下股權都非常分散,持股機構高達1 千多家,但均為低于3%的法人、小股東。總體來說ASML受美國資本控制,這也是為何ASML雖是荷蘭企業 ,卻服從美國法令的原因。
業內人士指出,中國目前是ASML光刻機最大的客戶,2024年因晶圓廠擴產景氣度及超額備貨的因素中國區收入占比爆發增長至41% 。海外制裁持續加劇 ,光刻機等核心科技受制于人的背景下,國產替代勢在必行。
國產光刻機取得顯著進展
光源是光刻機的核心之一,光刻機的工藝能力首先取決于其光源的波長 ,業內主流觀點依據光源波長將現有的光刻機技術分為五代。
第一、二代光刻機均為接觸接近式光刻機,曝光方式為接觸接近式,G線(G-line)光刻機 ,使用的是436nm波長的光源 。而I線(I-line)使用的是365nm波長的光源,這兩種光刻機,也叫作紫外光刻機。
而第三代升級為投影式光刻機 ,利用光學透鏡可以聚集衍射光提高成像質量將曝光方式升級為光學投影式光刻,以掃描的方式實現曝光。這一代叫作KrF光刻機,采用248nm光源的光刻機 。
第四代的ArF光刻機,與第三代KrF原理一樣 ,但光源升級,采用193nm光源的光刻機,這兩種稱之為DUV光刻機 ,也叫作DUV光刻機。
而第五代叫作ArFi,前面三個字母相同,因為采用的也是193nm光源 ,但這種又與ArF不一樣,之前所有的光刻機其介質采用的是空氣,但到了ArFi時 ,采用的是水。光線在經過水時,會有折射,所以雖然ArFi光刻機采用193nm波長光源 ,等經水折射時,等效于134nm波長的光源,所以這種光刻機,又叫作浸潤式光刻機。
國金證券表示 ,自“02專項 ”以來,以上海微為代表的光刻機整機公司在部分制程上已取得較為顯著的成績,完成了終端的0到1突破 ,在低端環節后續有望迎來產業端放量;在高端整機環節,2024年工信部發布的《首臺(套)重大技術裝備推廣應用指導目錄》中將國產KrF及ArF光刻機明確列入,標志著我國在DUV光刻機已取得明確進展 。
光刻機概念股年內集體大漲
綜合市場觀點來看 ,半導體行業的景氣度持續回升 、人工智能的發展對先進制程產能的需求,以及國產替代的技術突破,是光刻機概念受到市場青睞的重要因素。
國際半導體產業協會測算 ,到2028年,先進工藝設備的資本支出將激增至超過500億美元,與2024年投資的260億美元相比 ,大幅增長94%,復合年增長率為18%。
華金證券表示,光刻機技術仍是先進制程大規模量產的基石 。從產業鏈角度來講,該機構表示 ,除了整機(上海微電子、奧普光電)外,光學器件(茂萊光學、炬光科技等) 、光源(福晶科技、波長光電)、物鏡(賽微電子 、福光股份)等都是光刻機工作的重要環節。
在國產替代以及技術突破的背景下,相關上市公司受到投資者追捧 ,今年股價集體走強。
據東方財富Choice數據,截至9月18日,A股93家具有光刻機概念的上市公司中 ,年內股價上漲的共計89家,上漲家數占比接近96%,平均漲幅更是高達49.18% 。
其中 ,聯合化學漲幅最大,年內漲超3倍;凱美特氣緊隨其后,年內漲超2倍;騰景科技、肯特催化分別位列第三、第四 ,漲幅均超180%。此外,炬光科技 、東材科技等多股,今年股價也已翻倍。
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